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1、分子渗透技术专题
母线性能最薄弱的环节在于电气连接位置（如接头连接部位，插
接口部位等），在这些区域：
1).温升高
2).能耗集中
3).故障多发
因此，提高电气连接性能成为母线设计的关键。
I-LINE ® B系列高电流母线采用施耐德电气独有的分子渗透技术，使
铝、铜、银之间的过渡区域形成合金结构，完全消除了不同金属
之间的电位差，成功突破了母线电气连接瓶颈，将电气传输性能
提升到新的高度。
60年积铢累寸的不断进取，施耐德电气
向亚太市场倾力推出I-LINE ® B系列高电流
母线，可广泛应用于能源及基础设施、工
业、数据中心，商业及民用建筑的低压配
电系统，为您带来稳定可靠的电力供应，
并服务于您的智能供电系统，真正助您节
能增效。
2、应用广泛
1).欧美超过二十年的应用历史
施耐德母线发展历程
2).1942年，施耐德推出第一种高电流母线槽
3).1955年，开始为客户提供全系列Canalis母线产品
4).1970年，推出新一代I-LINE高电流母线
5).1981年，施耐德独创分子渗透连接技术成功应用于中电流母线
6).1997年，采用分子渗透连接技术的高电流母线，在欧洲开始广
泛应用
7).2008年，I-LINE ® B系列高电流母线开始为亚太地区客户输送可
靠电力
……
8).满足800－5000A各种电流等级要求
9).多种灵活连接方案，与所有低压配电设备无缝对接
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